Tanque de almacenamiento forrado de PTFE para hidróxido de tetrametilamonio

El tanque de almacenamiento de tetrametil hidróxido de amonio forrado con PTFE de RANA está forrado con PTFE, diseñado para cumplir con los requisitos de alcalinidad y alta pureza de alta pureza del hidróxido de trimetilamonio de grado electrónico (TMAH). TMAH se usa comúnmente en la limpieza de obleas de semiconductores y el desarrollo de fotorresistros, y es altamente sensible a impurezas como los iones metálicos. La inercia química de PTFE evita que el material del tanque lixivie contaminantes, asegurando que el TMAH almacenado mantenga su pureza. Además, la baja permeabilidad de PTFE evita que la humedad o la CO₂ ingresen, evitando así una disminución de la concentración de TMAH debido a la absorción de humedad o la carbonatación.

El tanque de almacenamiento se utiliza principalmente en la producción de productos químicos electrónicos y la fabricación de semiconductores. Su pared interna presenta un diseño suave y sin costuras, que reduce el riesgo de residuos de materiales y facilita el reemplazo de soluciones TMAH de diferentes lotes o especificaciones. Además, el tanque está construido con materiales de sellado de grado alimenticio, que cumple con los requisitos estrictos para entornos de almacenamiento ultra limpio en la industria de semiconductores. Este equipo es esencial para garantizar la precisión de los procesos de fabricación de la placa central.

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