Filtro revestido de PTFE modificado

¡Revolución de modificación, perfectamente adaptada a la "pureza ultra-alta"!
Dígale adiós a los problemas de lixiviación de iones metálicos del PTFE tradicional-el filtro revestido de PTFE modificado logra un control de lixiviación de iones a nivel de PPT-a través de una "tecnología de modificación innovadora", que resuelve eficazmente los problemas de revestimiento tradicionales.

Ultra-Pure Guardian, "controlador de nivel-de micras" para la fabricación de semiconductores.
Con una precisión de filtración de 0,01 μm, los elementos filtrantes de PTFE modificado interceptan partículas submicrónicas, bacterias y contaminantes TOC. Extraíbles resistentes a ácidos-álcalis Menos o igual a 0,1 ppb y resistencia al impacto aumentada en un 50 %. Como "última línea de defensa" para el pulido de terminales UPW, el recubrimiento fotorresistente-y la entrega de lodo CMP, cumple con los estándares SEMI G5, lo que reduce drásticamente la tasa de defectos de las obleas con una "producción de impurezas cero". Desde procesos de 7 nm a 3 nm, protege el rendimiento del chip con "máxima pureza", eliminando las "preocupaciones por las partículas" en la fabricación de semiconductores.

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